mask金属掩膜版蚀刻加工和相关工艺

光掩膜(mask)资料: ?在半导体制造的整个流程中，其中一部分就是从版图到wafer制造中间的一个过程，即光掩膜或称光罩(mask)制造。这一部分是流程衔接的关键部分，是流程中造价很高的一部分，也是限制很小线宽的瓶颈之一。 ?光掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像lcd，pcb等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。干版涂附的乳胶，硬度小且易吸附灰尘，不过干版还有包膜和超微颗粒干版，其中后者可以应用于芯片制造。(顺便提一下，通常讲的菲林即film，底片或胶片的意思，感光为微小晶体颗粒)。 ?在刻画时，精密蚀刻厂，采用步进机刻画(stepper)，其中有电子束和激光之分，蚀刻厂商，激光束直接在涂有铬层的4-9“ 玻璃板上刻画，边缘起点5mm，与电子束相比，其弧形更逼真，蚀刻厂，线宽与间距更小。光掩膜有掩膜原版(reticle mask，也有称为中间掩膜，reticle作为单位译为光栅)，用步进机重复将比例缩小到master maks上，应用到实际曝光中的为工作掩膜(working mask)，工作掩膜由master mask复制过来。石家庄贝尔电子科技有限公司的此项技术工艺精湛，受到许多顾客的好评。

? ? ?栅极蚀刻技术： 栅极蚀刻工艺流程在蚀刻需要注意的事情，在栅极蚀刻之前的工序都是属于前处理过程，它是保证丝印油墨与金属面具有良好附着力的关键工序，北京蚀刻厂，因此必须要清除金属蚀刻表面的油污及氧化膜。除油应根据工件的油污情况定出方案，在丝印前进行电解除油，保证除油的效果。除氧化膜也要根据金属的种类及膜厚的情况选用好的浸蚀液，保证表面清洗干净。在丝网印刷前要干燥，如果有水分，也会影响油墨的附着力，而且影响后续图纹蚀刻的效果甚至走样，影响装饰效果。

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